| ULTRA R9000 |
ULTRA R9000 플랫폼은 광범위한 재료에 레이저 재료 가공을 제공합니다. 제조, 연구 개발, 학술 연구 및 프로토 타이핑 환경에서 재료 처리에 적합하도록 설계되고 적합합니다. 고유 한 모듈 식 아키텍처를 통해 성능, 기능 및 안전성을 향상시키기위한 광범위한 옵션으로 맞춤형 솔루션을 쉽게 재구성하여 현재 및 미래의 비즈니스 요구를 충족시키는 완벽한 솔루션을 완성 할 수 있습니다. |
두 개의 교환 가능한 CO2 레이저 또는 한 개의 CO2 레이저와 한 개의 파이버 레이저로 구성된 최대 두 개의 레이저 소스로 사용자 지정 가능한 Ultra R9000 플랫폼을 구성합니다. 플랫폼이 두 개의 레이저로 구성되면 사용자는 MultiWave Hybrid™ 기술을 활용하여 9.3µm, 10.6µm 및 1.06µm의 세 파장 중 두 파장을 동시에 단일 동축 빔으로 결합할 수 있습니다. 빔의 각 스펙트럼 구성요소는 독립적으로 제어되며 실시간으로 변조될 수 있습니다.
주요 기능 및 옵션은 다중 레이저 지원, 고속 레이저 빔 포지셔닝, 정밀 재료 독립적인 자동 초점, 제어 가능한 레이저 전력 밀도, 자동화 인터페이스, 멀티 카메라 비전 및 기록, 과열 감지, 화재 진압 지원 등이다.
시스템 기능 | 적층 안전 유리 화재 진압 겹침형 구조의 상단 및 전면 도어 Stretch-Free Kevlar® 벨트
| 레이저 기능 | 레이저 팬 제어(소음 감소용) |
※ 사양 및 제원 | ||
작업 영역 치수 | 1219x 610 x 305mm (가로 x 세로 x 높이mm) | |
본체 외형 치수 | 1,803 x 1,118 x 1,219mm (가로 x 세로 x 높이mm) 전면 | 측면 | 후면 | |
사용 가능한 초점 렌즈 / 스팟지름 | 50.8mm (2.0 인치) / 127μ * 표준 76.2mm (3.0 인치) / 228μ - 옵션 : HPDFO (2.0 인치) / 25μ | |
구동 해상도 | 2000dpi , 1000dpi , 500dpi , 333dpi , 250dpi , 200dpi , 83dpi (7단계 컨트롤) | |
인터페이스 패널 | 21 인치(533 mm) 터치스크린 인터페이스 | |
운영체제 호환성 | Windows / Mac / Linux / Android / iOS | |
PC 연결 | 이더넷 또는 WIFI WindowsTM/macOSTM/LinuxTM/AndroidTM/iOSTM(브라우저 기반) | |
소프트웨어 인터페이스 | 파일 형식: PDF, DXF, G-code ,지능형 재료 데이터베이스 | |
시스템 스타일 | 플랫폼 (고정형) | |
레이저 옵션 | 10.6㎛(CO2) 10~300W 9.3㎛(CO2) 30,50,75,150W / 1.06㎛(Fiber) 50W | |
운영체제 호환성 | Windows / Mac / Linux / Android / iOS | |
대략적인 중량 | 228Kg | |
렌즈 보호 | 압축 공기에 의한 렌즈 보호 | |
시스템 스타일 | 플랫폼 (고정형) | |
시스템 냉각 | 공냉식 | |
전원 요구 사항 | 220-240V/16A | |
배기 연결 | 후면 - 6인치(152mm) 포트 1구 | |
안전 | 재료 가공 레이저(1.06, 9.3, 10.6 µm) 에 대한 클래스 1에는 선택적인 특허 클래스 4 변환 모듈 | |